美国加利福尼亚州圣何塞国际先进光刻技术博览会(SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY)
展会时间:
2027年2月21日-25日
展会地点:
展会行业:
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3.0
3星展会
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美国加利福尼亚州圣何塞国际先进光刻技术博览会
展会时间:
2027年2月21日-25日
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展会介绍
英文名称:SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY
英文简称:SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY
举办周期:一年一届
展会规模:20000-50000

     美国加利福尼亚州圣何塞拥有世界上最大的技术专长集中地,并在专利生成方面领先于美国。

     该市拥有 25 家员工人数在 1,000 人以上的公司,包括 Adobe Systems、BEA Systems、Cisco、Xilinx、Lam Research 和 eBay 的总部,以及伟创力、惠普、IBM、日立、安捷伦科技和洛克希德马丁的主要设施。      探索将在 SPIE 数字图书馆中发布的来自世界各地的数百个演示文稿,利用各种技术和网络活动来让您了解最新的研究和同行的最新动态,世界级的演讲者分享有关行业和学术界的最新挑战和机遇的见解。

展品范围

光学和 EUV 纳米光刻
DTCO 和计算模式
计量、检测和过程控制
新颖的图案化技术
图案化材料和工艺的进展
用于纳米图案化的先进蚀刻技术和工艺集成

展馆信息
展会地点:
往届数据

参展商: 1,588 家参展商
参展观众:来自 75 多个国家的 24,000 名游客
展览面积:30,000平方米