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半导体制造和相邻应用的光学和 EUV 光刻、图案化技术、计量和工艺集成方面
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光学和 EUV 纳米光刻
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DTCO 和计算模式
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计量、检验和过程控制
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新颖的图案化技术
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图案化材料和工艺的进步
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用于纳米图案化的先进蚀刻技术和工艺集成
展会介绍
英文名称：ADVANCED LITHOGRAPHY CONFERENCE AND EXPO
英文简称：ADVANCED LITHOGRAPHY+PATTERNING
举办周期：一年一届
展会规模：10000-20000
展品范围
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光刻设备、纳米技术产品、材料、磨料、化学品、软件、光学元件、微技术、相机和成像系统
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测试测量设备、显微镜、数据计算软件、加工硬件、光学涂层和薄膜
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探测器和传感器、激光器和激光系统
往届回顾
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